【導(dǎo)讀】11月5日至10日，第八屆中國(guó)國(guó)際進(jìn)口博覽會(huì)在上海國(guó)家會(huì)展中心成功舉辦。技術(shù)裝備展區(qū)作為全場(chǎng)焦點(diǎn)之一，吸引眾多專(zhuān)業(yè)觀眾駐足交流，現(xiàn)場(chǎng)氣氛熱烈。連續(xù)七年參展的全球光刻技術(shù)領(lǐng)導(dǎo)者ASML，此次以“積納米之微，成大千世界”為主題，在集成電路專(zhuān)區(qū)展示了其前沿的光刻解決方案。
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ASML全球執(zhí)行副總裁、中國(guó)區(qū)總裁沈波在接受采訪時(shí)強(qiáng)調(diào)：“進(jìn)博會(huì)倡導(dǎo)的開(kāi)放合作理念，與半導(dǎo)體產(chǎn)業(yè)全球化協(xié)作、共同進(jìn)步的特質(zhì)高度契合。我們希望通過(guò)這一平臺(tái)，與各界伙伴深入交流，分享行業(yè)洞見(jiàn)，展示ASML在光刻領(lǐng)域的最新成果。”
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AI時(shí)代的兩大挑戰(zhàn)：算力需求與能源消耗
隨著人工智能技術(shù)的迅猛發(fā)展，全球半導(dǎo)體行業(yè)正迎來(lái)新的變革契機(jī)。沈波指出，AI將成為引領(lǐng)下一波半導(dǎo)體產(chǎn)業(yè)大發(fā)展、并推動(dòng)社會(huì)全面數(shù)字化轉(zhuǎn)型的核心驅(qū)動(dòng)力。根據(jù)麥肯錫預(yù)測(cè)，到2030年，AI將為全球GDP貢獻(xiàn)10萬(wàn)億美元的價(jià)值。
然而，AI的快速發(fā)展也帶來(lái)了兩大挑戰(zhàn)。沈波解釋道，一是摩爾定律和AI時(shí)代對(duì)算力需求之間的“剪刀差”——半導(dǎo)體行業(yè)長(zhǎng)期遵循的摩爾定律顯示晶體管數(shù)量每?jī)赡曜笥曳槐叮鳤I的算力需求幾乎是每?jī)赡暌?5-16倍的速度增長(zhǎng)，這與摩爾定律預(yù)示的線性增長(zhǎng)路徑形成鮮明對(duì)比。
二是能源消耗問(wèn)題。研究表明，若僅通過(guò)增加模型參數(shù)提升性能，且其他技術(shù)條件不變，為了在200小時(shí)內(nèi)完成一次超大模型訓(xùn)練，其所需的計(jì)算速度將導(dǎo)致功耗大幅度提升。
“鐵三角”全景光刻解決方案應(yīng)對(duì)行業(yè)挑戰(zhàn)
面對(duì)這些挑戰(zhàn)，延續(xù)摩爾定律仍是關(guān)鍵應(yīng)對(duì)之策。沈波介紹，“通過(guò)2D微縮持續(xù)縮小晶體管尺寸、提升晶體管密度與能效，以及借助3D集成進(jìn)行堆疊和封裝，突破平面極限，是芯片行業(yè)在技術(shù)領(lǐng)域?qū)で髣?chuàng)新突破的兩大核心路線。”
ASML通過(guò)“鐵三角”全景光刻解決方案——光刻機(jī)、計(jì)算光刻、量測(cè)與檢測(cè)的協(xié)同，幫助客戶以更低能耗和成本實(shí)現(xiàn)更高良率，提升芯片性能與能效。
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在本次進(jìn)博會(huì)現(xiàn)場(chǎng)，ASML以數(shù)字化方式展示了全景光刻解決方案下的多款產(chǎn)品和技術(shù)。沈波詳細(xì)介紹道：“光刻機(jī)幫助客戶制造芯片，計(jì)算光刻創(chuàng)建光刻工藝的精確仿真模型以提高良率和產(chǎn)能，量測(cè)與檢測(cè)設(shè)備用于曝光后晶圓成像檢查和反饋，及時(shí)糾錯(cuò)/調(diào)整光刻工藝實(shí)時(shí)提升良率。”
ASML展示的DUV光刻機(jī)具備多項(xiàng)創(chuàng)新技術(shù)。其中TWINSCAN XT:260是ASML的首款可服務(wù)于先進(jìn)封裝領(lǐng)域的光刻機(jī)，該設(shè)備通過(guò)光學(xué)系統(tǒng)的創(chuàng)新具有大視場(chǎng)曝光，相較于現(xiàn)有機(jī)型可提升4倍生產(chǎn)效率。沈波補(bǔ)充說(shuō)：“這款設(shè)備在今年第三季度已正式發(fā)運(yùn)。”
另一款DUV光刻機(jī)TWINSCAN NXT:870B在升級(jí)的光學(xué)器件和最新一代磁懸浮平臺(tái)的支持下，可實(shí)現(xiàn)每小時(shí)晶圓產(chǎn)量400片以上，并為鍵合后的套刻和階梯式工藝提供強(qiáng)大的校正能力。
值得一提的是，ASML的DUV光刻機(jī)創(chuàng)新性地引入了鉆石涂層，能夠有效減少設(shè)備磨損，延長(zhǎng)使用壽命，降低更換需求與維護(hù)成本。
深耕中國(guó)市場(chǎng)三十余載，團(tuán)隊(duì)持續(xù)壯大
自1988年向中國(guó)交付首臺(tái)步進(jìn)式光刻機(jī)起，ASML在華征程已逾三十載。沈波表示，ASML參與并見(jiàn)證了中國(guó)半導(dǎo)體行業(yè)的發(fā)展歷程，在合法合規(guī)前提下始終為中國(guó)客戶提供堅(jiān)實(shí)支持。
如今，中國(guó)已成為ASML最重要的市場(chǎng)之一。ASML在中國(guó)17個(gè)城市設(shè)有辦事處、還有15個(gè)倉(cāng)儲(chǔ)物流中心、3個(gè)開(kāi)發(fā)中心、1個(gè)培訓(xùn)中心以及1個(gè)維修中心，形成了集開(kāi)發(fā)、支持、服務(wù)與人才培養(yǎng)于一體的綜合體系。
ASML在中國(guó)的團(tuán)隊(duì)也在持續(xù)壯大。沈波介紹：“目前ASML中國(guó)區(qū)員工人數(shù)已經(jīng)突破2000人，相比去年的1800人實(shí)現(xiàn)了約10%的穩(wěn)健增長(zhǎng)。我們?cè)谥袊?guó)的計(jì)算光刻和電子束量測(cè)開(kāi)發(fā)團(tuán)隊(duì)超過(guò)400人，今年新增的200名員工中客戶服務(wù)工程師占據(jù)很大比重。”
在業(yè)務(wù)發(fā)展的同時(shí)，ASML也積極踐行企業(yè)社會(huì)責(zé)任。沈波分享道：“團(tuán)隊(duì)在全國(guó)各地開(kāi)展ESG活動(dòng)，包括慈善活動(dòng)、科技類(lèi)活動(dòng)等，例如我們的西安團(tuán)隊(duì)每年都會(huì)定期前往當(dāng)?shù)剜l(xiāng)鎮(zhèn)小學(xué)，為留守兒童組織活動(dòng)，給予他們陪伴與關(guān)懷。”
行業(yè)前景樂(lè)觀，穩(wěn)健增長(zhǎng)可期
在采訪的最后，沈波分享了對(duì)ASML業(yè)績(jī)以及行業(yè)發(fā)展的看法：“根據(jù)公司最新第三季度財(cái)報(bào)，ASML預(yù)期2025年全年銷(xiāo)售額將實(shí)現(xiàn)15%的同比增長(zhǎng)。當(dāng)前，半導(dǎo)體行業(yè)整體仍處于調(diào)整階段，并正逐步進(jìn)入上行周期，全年15%的幅度是一個(gè)比較穩(wěn)健的增長(zhǎng)。”
中長(zhǎng)期來(lái)看，公司持續(xù)看好行業(yè)發(fā)展。沈波表示，ASML基本維持對(duì)2030年?duì)I業(yè)額達(dá)到440億至600億歐元的預(yù)期，“整體而言，我們對(duì)行業(yè)前景保持樂(lè)觀態(tài)度。”
隨著人工智能時(shí)代的全面到來(lái)，半導(dǎo)體產(chǎn)業(yè)正站在新的歷史起點(diǎn)。ASML通過(guò)其全景光刻解決方案，正積極助力全球半導(dǎo)體行業(yè)應(yīng)對(duì)算力與能效挑戰(zhàn)，推動(dòng)技術(shù)創(chuàng)新與產(chǎn)業(yè)升級(jí)。
